| 全名 | Chip on Wafer on Substrate | Chip on Panel on Substrate |
| 載具 | 300 mm 圓晶圓 | 310 × 310 mm 方形面板已核 |
| 中介層 | -S 整片矽(TSV)/-R 有機 RDL/-L 局部矽橋+RDL;Blackwell、Rubin 用 -L | 多層 RDL 做在玻璃等方形載具上,不用整片矽;業界描述為 CoWoS-L/-R 的矩形版已核 |
| 面積上限 | 量產中約 5.5 倍光罩,路線圖 2028 年 14 倍;愈大,圓形邊角浪費愈多已核 | 方板邊到邊可用:面積 96,100 vs 70,686 mm²(1.36 倍),再加上無邊角浪費;媒體流傳的 5~6 倍為不同前提的估算媒體估 |
| 目前階段 | 量產;法人估 2026 年底月產能 12~13 萬片法人估 | 試產線建置中(采鈺龍潭,2026 年設備進機);2027 試產、2028 下半年量產目標已核 |
| 誰做 | 台積電做前段 CoW,後段 oS 與測試外溢給日月光、Amkor | 台積電(試產線采鈺、量產線嘉義 AP7) |
| 用在哪 | Blackwell、Rubin、各家 AI ASIC | 首家客戶傳為輝達 Feynman 世代傳聞 |
| 卡在哪 | 中介層面積與產能追不上需求 | 大面板翹曲、設備從圓改方的重新認證(約一年半)已核 |