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AI 伺服器的高階銅箔地圖

從 AI 機櫃到 CCL 到 HVLP4:為什麼銅箔表面的起伏不能超過半微米,以及誰做得出來。

AI 機櫃裡的訊號走多層 PCB,PCB 是多張 CCL 壓合,CCL 的導體就是銅箔。訊號速度一高,決定損耗的不再是板子設計,而是銅箔表面那幾微米的起伏。本頁先把鏡頭從機櫃拉近到銅箔,再拆開 CCL 的三種材料,最後列出每一層背後的公司。圖都可以點。

最後更新日:2026 年 10 月 11 日
股票代號:台股四碼/海外為交易所代碼
性質:個人研究整理,非投資建議
已核 公開報導已查證公司營收公告、研調報告、主流財經媒體(「附」節列來源與日期)
傳聞 法人估、媒體引述、公司未證實供需缺口噸數、產能與市占預估、選材與時程消息;寫法保留「估」「傳」

01 — ZOOM IN

從機櫃到銅箔:一路放大

由左到右一格一格放大,整台機櫃的訊號品質,最後落在第 ⑤ 格那條線平不平。點任一格,圖下方會說它是什麼、哪些公司在裡面。

從 AI 機櫃、托盤與中介背板、多層 PCB、CCL,一路放大到銅箔表面 ① AI 機櫃 Rubin NVL72 高階銅箔 ≈59 kg/機 ② 托盤/中介背板 26/32/44 層 無纜化:訊號改走板子 ③ 多層 PCB 多張 CCL+膠片 壓合成幾十層 ④ CCL 銅箔・膠片・銅箔 PCB 的「生板」 ⑤ 銅箔表面 ★ 舊:粗 Rz 3~5 μm 新:平 Rz ≤0.5 μm 本頁主角 HVLP4 電流只走表面 0.3~0.4 μm 高頻電流只在銅箔表面 0.3~0.4 μm 流動;表面起伏比這還大,電流就得翻山越嶺、能量變熱 所以 AI 世代一定要換「超低粗糙度銅箔」,不是把銅箔做厚就好
圖 1|從整櫃放大到銅箔表面的「山谷」。層數依大摩 Rubin BOM 拆解(2026/5)與 TrendForce;用量為市場研究估算(優分析 9/24)。

為什麼這一站是瓶頸

一句話版本(事實):訊號頻率到 28~56 GHz 時,電流只在銅箔表面 0.28~0.39 μm 這一薄層流動(趨膚效應);舊銅箔的表面起伏 3~5 μm,是它的十倍。要讓損耗可控,Rz 必須壓到 ≤0.5 μm,而且是在一卷一公尺多寬、數公里長的銅箔上每一處都做到。能穩定量產的全球只有三井金屬、古河、金居等少數幾家(中國銅冠、德福正在爬坡),而 M8U 以上的 CCL 不管樹脂、玻纖布怎麼換,銅箔都要 HVLP4。已核

FULL MAP — 完整版地圖

這篇講的是 PCB 這一層;再往下一層在完整地圖

HVLP4 銅箔決定的是機櫃裡 PCB 這一層的訊號損耗。同一顆 GPU 再往下看,先進封裝那一層——CoWoS、CoPoS、FOPLP、CoWoP、TGV/玻璃基板、EFB、晶背供電——在《AI 晶片|先進封裝地圖》:七張可點的圖、關係圖與全部公司卡。留下 Email,確認後直接打開。

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02 — CCL

CCL 結構圖:三種材料,各管一種損耗

CCL 是上下兩層銅箔夾一層膠片,膠片是樹脂浸在玻纖布裡。訊號損耗 = 三種材料各自的損耗相加:銅箔管導體損耗(Rz)、玻纖布管 Dk、樹脂管 Df。剖面是概念圖、不是比例圖;每一層和下方的等級都可以點。

CCL 剖面:上下兩層 HVLP4 銅箔夾膠片,膠片由樹脂與玻纖布組成;銅箔與樹脂之間有表面處理層;下方為 M7 到 M10 等級 一張 CCL 的剖面(放大,非比例) 銅箔 HVLP4(Rz ≤0.5 μm) 膠片 PP = 樹脂 + 玻纖布 樹脂(Df) 玻纖布(Dk) 銅箔 HVLP4 導體損耗由銅箔 Rz 決定 介質損耗由 Dk/Df 決定 玻纖布缺可等擴產樹脂可換路線 導體損耗貼樹脂那面要平 CCL 等級 = 材料組合(等級愈高,三樣一起升級;M8U 起銅箔鎖定 HVLP4) M7/M8 M8U M9 M10/無布
圖 2|CCL 剖面與等級。綠框的 M8U、M9、M10 都要 HVLP4 以上的銅箔;樹脂路線之爭會變,銅箔的需求不會變。

銅箔世代尺:HVLP4 跟前幾代差在哪

HVLP = Hyper Very Low Profile(超低粗糙度銅箔),後面的數字是世代:數字愈大、Rz 愈小。把各代的表面起伏 Rz 和電流流動的那層厚度 δ 畫在同一把尺上,只有 HVLP4 以後跟紅線同量級。每一列都可以點。

六個銅箔世代的表面粗糙度 Rz 與 28/56 GHz 趨膚深度在同一尺規上的比較 012345 μm 表面粗糙度 Rz 標準 ED/HTE 3~5 RTF 反轉銅箔 <3 HVLP1~2 <1.5 2024~25 AI 伺服器主流 HVLP3 ≈0.7 PCIe Gen6、800G、2026 多數平台 HVLP4 ★ ≤0.5 PCIe Gen7、1.6T、Rubin/MI400/Trainium 3 HVLP5 更低(未公開) UALink、CPO;2027 投入 δ@56 GHz 0.28 μm δ@28 GHz 0.39 μm ← 電流只在這麼薄的一層流動
圖 3|長條愈短表面愈平。每升一代:Rz 約砍半、同一條線有效產能約減半、加工費上一階。注意:HVLP1~5 不是 IPC 標準等級,是各家產品系列的世代稱呼;Rz 依台灣媒體與法人常用的三井金屬口徑,工程文獻有把標準 ED 列到 6~10 μm 的,量測方式不同數字就不同。

03 — COMPANIES

公司卡

一句話分工:銅箔廠把銅做成一卷超平的薄膜,CCL 廠把銅箔和膠片壓成生板,PCB 廠把生板疊成幾十層的托盤。HVLP4 的難點(生箔、表面處理)都在銅箔廠;CCL 廠是銅箔的客戶,銅箔漲加工費會往 CCL、PCB 一路傳導。上方標籤可只看某一種材料或市場;從圖點進來的公司會亮框。

市場

市場標籤:台股 台灣上市櫃(四碼)  東京(.T) 陸股 深圳/上海。角色色標:主戰場候選間接曝險國際對照。產能、缺口等法人預估屬動態,使用前請再核對日期。

銅箔廠

生箔、表面處理:HVLP4 的核心難點都在這裡

金居

台股8358
HVLP3/HVLP4 銅箔HVLP5 開發中RG313(PCIe Gen6)
角色主戰場卡位銅箔廠(台灣唯一穩定量產 HVLP4)
曝險
已停產 HTE/RTF、專做高階銅箔,純度最高。9 月營收 11.04 億元、年增 64.6%。已核
事實
HVLP4 2025 年切入 NVIDIA、2026 年放量(Rubin 運算/交換托盤);訂單看到 2027 年底(董事長 6 月股東會說能見度到 2028 年)。HVLP3+HVLP4 合計月產能:上半年約 100 噸 → 2026 年底 150 噸;三廠四線 2027 Q1 起投產、目標 2027 Q4 月產能 600 噸、以 HVLP4 為主。已核 大摩估 HVLP4 單項月產能 2026 年底約 200 噸 → 2027 年底 700 → 2028 年底 800;市占由 2026 年約 13% 升至 2028 年 21%、可望成全球第二(僅次於三井)。法人估
風險
純度最高也代表波動最大:營運只繫於高階銅箔一條線,擴產進度任何一季落後都會被放大檢視;龍頭廠 HVLP4 良率約 70~80%,良率與擴產節奏是最大變數;日系表面處理設備交期 18~24 個月。法人對產能與市占的預估更新很快,看的時候抓最新一份。

南亞

台股1303
銅箔 HVLP3/4玻纖布 Low-Dk2CCL
角色候選卡位集團垂直整合(三種材料都有)
曝險
電子材料 8 月營收占比 59.8%,但銅箔只占電子材料約一成;高階(M7 以上)CCL 占比仍低於 5%。純度被塑化本業與中階產品稀釋。已核
事實
銅箔銷量以 HVLP1/2 為主,HVLP3 與「類 HVLP4」少量出貨、HVLP5 開發中(法人口徑則寫「高階產品以 HVLP3/4 為主」,注意是高階產品之中);日東紡供 Low-Dk2 原紗、南亞織布,下半年放量;CCL 月產能 618 萬張 → 2026 年底 650 萬、2027 年挑戰 700 萬;M9/M10 用 Low-Dk2+自有碳氫樹脂、M10 送樣中。已核
風險
「交期、供料穩定」成奪單關鍵時,垂直整合是優勢;但高階產線騰退與良率爬坡要時間,2027 年才是驗證期,法人多把它的高階放量時點放在那一年。法人估

三井金屬

5706
HVLP 全球龍頭HVLP4/5
角色國際對照卡位銅箔廠
事實
HVLP(三井叫 VSP)台灣+馬來西亞月產能 620 噸(2025/8,當時以 1 代為主)→ 840 噸(2026/9 目標)→ 1,200 噸(2028 遠期);2025/11 傳研議提前建 1,000 噸以上體系。三井自己算過:620 噸若全轉做 4 代,只剩 320 噸,這就是轉換折損。已核 市占全球最高,大摩口徑約三分之一。法人估
風險
逐步退出 RTF;客戶需求多元、不可能全轉 4 代;它的擴產節奏決定 2028 年缺口是否收斂。

古河電工

5801
HVLP4 量產
角色國際對照卡位銅箔廠
事實
與三井、金居同列能穩定量產 HVLP4 的少數幾家。已核
風險
HVLP4 產能數字未公開。

銅冠銅箔、德福科技

陸股301217、301511
HVLP4 爬坡中HVLP5 開發
角色候選卡位銅箔廠(中國)
事實
銅冠 HVLP4 已量產爬坡,上半年 RTF+HVLP 占 PCB 銅箔產量逾五成。德福(併購盧森堡 Circuit Foil 取得技術)HVLP 出貨 8 月 500 噸 → 9 月 699.7 噸,其中 HVLP4 由約 70 噸跳到 187 噸(10/8 董秘回覆);HVLP1~3 良率近七成、HVLP4 逾六成;5 萬噸高階銅箔基地 2027 Q2 起分批投產。已核
風險
美系客戶「去中化」採購是台廠護城河;但若中國 CCL 廠(生益、沪電)大量採用中國銅箔,2027 年缺口可能比大摩估的 31% 小。中國廠是 2027 年後最大變數。

CCL 廠

直接用 HVLP4:漲價傳導的中段

台光電

台股2383
M8U/M9 量產M10 送樣PTFE 混壓
角色主戰場卡位高階 CCL 龍頭
曝險
9 月營收 215.32 億元、年增 168.9%、創新高;M9 2026 下半年放量。已核
事實
M9(Q-glass+HVLP4)主要供應者;PTFE 混壓與台虹合作,NVL576 可能二供。已核二供為傳聞
風險
市場對它的期待建立在 2027~2028 年的放量上,而且外資研究有一派的主軸是 Google TPU、不是 Rubin——看報告先確認它講的是哪條需求線。法人觀點 Rubin 放量延後或 NVL576 選材轉向,最先受影響的就是這類放量預期。

台燿

台股6274
M7+/M8 系列HVLP4+Low-Dk2ASIC/交換器板材
角色主戰場卡位高階 CCL 二哥
曝險
9 月營收 61.26 億元、年增 114.8%、創新高。已核
事實
ASIC 與交換器板材為主,主力產品線為 M7+/M8 系列(HVLP4+Low-Dk2 組合);外資對它的追蹤多從 ASIC 陣營(TPU、Trainium)的放量節奏出發。法人觀點
風險
客戶偏 ASIC 陣營,Rubin 直接曝險低於台光電。

聯茂

台股6213
中高階 CCLEM 系列高速材料
角色主戰場卡位CCL(缺貨漲價受惠最直接)
曝險
9 月營收 58.24 億元、年增 110.7%、連 7 個月創高;8 月單月淨利 9.24 億元、年增 852%。已核
事實
漲價彈性最大:高階占比低、產品均價隨 CCL 缺貨調漲時,毛利率的變化最明顯。已核
風險
高階占比低於台光電,HVLP4 題材純度較低。

生益科技

陸股600183
NVL576 選材領先PTFE/HC 無布 CCL
角色國際對照卡位CCL 廠(中國)
事實
在 PTFE 與碳氫樹脂無布 CCL 的認證皆領先,台廠多為二供角色。已核
風險
若它大量採用中國銅箔,會壓縮台系銅箔廠的缺口紅利。

玻纖布

CCL 的第三條腿;缺了可以等擴產,不像銅箔沒替代

日東紡

3110
Low-Dk2Q-glass
角色間接曝險卡位玻纖布(與台玻主導低 Dk)
事實
新產能 2027 下半年才投入;供 Low-Dk2 原紗給南亞織布,2026 下半年放量。已核
風險
玻纖布題材股(台玻、富喬、建榮)與 PTFE 題材股(台虹、亞電)本頁不列卡。

04 — TIMELINE

供需與時程

不是建議。先記一條算式,再把「哪一季發生什麼」排成時間軸,最後列最常被誤會的四個點。各家供需噸數口徑不同(HVLP4 單一等級、HVLP 全系列、名目或有效產能),比較時挑同一口徑。

為什麼「有產能」≠「有供給」

有效產能 = 名目產能 × 轉換折損 × 良率 × 認證通過
  • 一條 HVLP2 舊線改做 HVLP4,製程更慢、銅更厚,有效產出先折四到五成(×0.5~0.6)。
  • 做出來的再打良率:龍頭 70~80%、新進約 60%,6~12 個月爬坡(×0.7~0.8)。
  • 通過 CCL 廠、PCB 廠、終端(NVIDIA/CSP)三道認證才算數,通常 1~3 年。
  • 名目 100 → 約 42 噸能出貨。三井自己揭露過:620 噸月產能若全轉做 HVLP4 只剩 320 噸。需求用公斤算翻倍(GB200 ≈28 → GB300 ≈31 → Rubin ≈59 kg/機),供給用有效噸數算卻在縮,這就是缺口的數學。折損比例為法人推估

缺口高峰在 2027(大摩口徑)

  • 2026 年 HVLP4+ 需求全年 1.23 萬噸(約 1,025 噸/月);第四季月需求估破 1,000 噸。
  • 2027 年需求 3.92 萬噸(約 3,270 噸/月)vs 有效產能約 2,495 噸/月 → 需求超過供給約 31%,年需求 +218%。
  • 2028 年缺口收斂至約 20%(三井、金居新線開出)。
  • SemiAnalysis(2025/9)最早點出 2026 Q2 缺口最嚴重:需求約 1,266 噸/月、缺約 500~666 噸。
  • 另一組常被引用的「缺口 2026 年底 1,500 噸/月 → 2027 年 2,500 噸/月」是市場研究機構估(MoneyDJ 6/9、優分析 9/24),跟大摩的 31% 不是同一口徑;「缺口 48%」「2027 需求 6,000 噸」則出處不明或含 HVLP 全系列,都別混用。均為法人估

現在燒什麼、明年接什麼(事實時間軸)

時間事件影響到誰
2026 H2Rubin 放量;台光電 M9 放量;金居 HVLP4 月產能 150 噸;HVLP4 月需求第四季估破 1,000 噸、缺口持續擴大(工商時報 10/10)金居、台光電、台燿、聯茂、南亞
2026 年底NVL576 交換托盤 PTFE/HC 選材定案(廣發估);中國 HVLP4 加工費估再調 10%、有望突破 20 萬人民幣/噸;金居三廠四線 2027 Q1 投產前夕台光電、生益;銅箔廠毛利
2027 H1金居三廠四線 Q1 起投產;德福 5 萬噸基地 Q2 分批投產;HVLP5 開始投入(陸資專家估)金居、德福;HVLP5 讓產能再折一次
2027 全年需求 +218%、需求超過供給約 31%(大摩);Rubin Ultra NVL576 下半年量產、MI400、Trainium 3 同時放量;日東紡新產能下半年投入全鏈:缺口高峰
2027 Q4金居月產能目標 600 噸(三廠四線全開);法人對 2028 年市占跳升的估算都以此為前提金居
2028三井 HVLP 月產能 1,200 噸(FY28);缺口收斂至約 20%;HVLP5 可能成主力;金居市占估升至 21%三井、金居;中國廠良率是變數
2028 後無布 CCL、HVLP5、CPO 把更多訊號改走光:長線都在減少「銅箔承擔的訊號距離」法人的長線預估多算到 2028 年,要留意

最常被誤會的四個點(事實)

  • 「金居是全球第二大 HVLP4」→ 目前市占約 13%;大摩估 2028 年升至 21%、可望成全球第二(三井 33%)。
  • 「全世界做不出來」→ 三井、古河、金居能穩定量產,中國銅冠已量產爬坡、德福良率逾六成。正確說法是:做得出來的廠屈指可數,卡的是良率與認證。
  • 「銅箔漲價」要拆兩層:銅價(LME 10 月維持在每噸 1.4 萬美元以上的歷史高檔區)推營收、多數是過手成本;加工費(中國 HVLP4 約 17~25 萬人民幣/噸,各報導口徑不一;金居上半年已調 5~10%)推毛利,只有後者是技術財。看財報時把兩者拆開。
  • 「蓋好廠」和「能出貨給 Rubin」差的是時間、不是錢:日系表面處理設備交期 18~24 個月,加上 1~3 年的整鏈認證。

四個會打亂節奏的變數

  • 中國廠良率爬得比想像快:若中國 CCL 廠大量採用中國銅箔,2027 年缺口可能比 31% 小。
  • 擴產與認證延遲:金居 2027 Q1 投產、Q4 全開是所有缺口估算的前提;設備交期任何延誤,2027 年的供給數字就得整個往後推——缺口估算會變,整鏈認證時程也跟著順延。
  • 需求端的鬼故事:9 月底郭明錤一則「NVIDIA 改測 HC 無布 CCL」調查,PTFE 題材股台虹、亞電單日跌 4~5%(CCL 三雄當天持平);AI 資料中心建置放緩、Rubin 放量延後,用量乘數會先縮。
  • 技術替代:HVLP5、無布 CCL、CPO 都在長線減少銅箔承擔的訊號距離,這是 2028 年後的事,但法人的長線預估正好算到 2028 年,兩件事會在同一個時間點碰頭。

A — GLOSSARY & SOURCES

名詞速查與資料核對

名詞速查

HVLPHyper Very Low Profile,超低粗糙度銅箔。數字是世代:HVLP3 ≈0.7 μm、HVLP4 ≤0.5 μm、HVLP5 未公開。
Rz十點平均粗糙度,量化銅箔表面「山谷」有多高。各家定義與量測方式不同,媒體引用的 0.3/0.5/<2 常因口徑不同打架。
趨膚深度 δ高頻電流只在導體表面一薄層流動,這層的厚度。銅 δ ≈ 66 ÷ √f(MHz) μm:1 GHz 2.1、10 GHz 0.66、28 GHz 0.39、56 GHz 0.28 μm。
CCL/PP銅箔基板(Copper Clad Laminate)= 銅箔+膠片+銅箔;膠片(Prepreg)= 樹脂浸在玻纖布裡。
M7~M10CCL 損耗等級。M7/M8:Low-Dk+HVLP2~3;M8U:Low-Dk2+HVLP4;M9:Q-glass+HVLP4;M10/無布:PTFE 或碳氫樹脂+HVLP4/5。
Dk/Df介電常數/介質損耗。Dk 由玻纖布主導(愈低訊號愈快)、Df 由樹脂主導(愈低損耗愈小)。
剝離強度銅箔黏在樹脂上的力。愈平愈不黏,掉到 0.8~1.0 N/mm 就會翹邊,是 HVLP4「平與黏」矛盾的量化指標。
加工費銅箔售價 = 銅價 + 加工費。銅價是過手成本,加工費才是技術財;中國市場 HVLP3 約 15~18 萬、HVLP4 約 17~25 萬人民幣/噸(各報導口徑不一)。
無纜化Rubin 把托盤間的高速訊號從銅纜改走多層 PCB,新增中介背板。板子變多變厚,是銅箔用量暴增的第一個乘數。

資料核對(2026 年 10 月 11 日)

以下是本頁「已核」標記的依據,內容均經改寫、非原文照錄。「傳聞」類在正文已標明。上線前若隔太久,先重查前四項。

  1. HVLP4 需求第四季月破千噸、缺口持續擴大、HVLP1/2 轉 3/4 有效產能約減五成、1.6T 交換器導入 HVLP4 — 工商時報 2026-10-10;金居 9 月營收 11.04 億元(年增 64.63%)、三廠四線 600 噸以 HVLP4 為主 — 工商時報 2026-10-10、公司公告 2026-10-08。
  2. 台光電 215.32 億元(年增 168.9%)、台燿 61.26 億元(114.8%)、聯茂 58.24 億元(110.7%)9 月營收同創新高 — 經濟日報、鉅亨網 2026-10-05;聯茂 8 月自結淨利 9.24 億元(年增 852.58%)— 經濟日報 2026-10-05。
  3. 台光電:外資研究中有一派以 Google TPU 為主軸、非 Rubin — 經濟日報 2026-10-05、工商時報 2026-10-08;大摩 HVLP4 供應鏈報告(金居、台燿、台光電)— 數位時代 2026-09-15。
  4. 金居:HVLP3+4 月產能 100 → 150 噸、三廠 2027 Q1 投產、Q4 600 噸、訂單能見度 2028 年 — 工商時報 2026-06-08、06-25;訂單滿到 2027 年底 — 工商時報 2026-09-17;大摩估 HVLP4 月產能 200/700/800 噸、市占 13% → 21% — MoneyDJ 2026-09-15、自由財經 2026-09-16。
  5. 大摩:HVLP4 需求 2026 年 1.23 萬噸、2027 年 3.92 萬噸(+218%)、2028 年 5.2 萬噸;2027/2028 需求超過供給 31%/20% — 工商時報 2026-09-23、數位時代 2026-09-15。
  6. 整機高階銅箔用量 GB200 ≈28/GB300 ≈31/Rubin ≈59 kg、AI 伺服器 8 倍、PCB 面積 2.3×、龍頭良率 70~80%、設備交期 18~24 月、認證 2~3 年、中國加工費 17~20 萬 — 優分析 2026-09-24(轉述市場研究,非 NVIDIA 官方)。缺口 2026 年底 1,500 噸/月 → 2027 年 2,500 噸/月 — MoneyDJ 2026-06-09(市場研究機構估)。
  7. Rubin 無纜化、Switch Tray M8U/24 層 HDI、Midplane 與 CX9/CPX 用 M9、最高 104 層、TPU v7/Trainium 3 同樣導入 — TrendForce 新聞稿 2025-11-20;運算板 26 層/交換板 32 層/中板 44 層、PCB 價值 3.51 → 11.67 萬美元、M7 → M8 — 大摩 Rubin BOM 拆解 2026-05(鉅亨網轉述);Rubin Ultra 正交背板 78 層、NVL576 2H27 量產 — 郭明錤 2026-09-30、台積電揭露(券商轉述)。
  8. 三井金屬 VSP 月產能 620 噸(2025/8,台灣 560+馬來西亞 60)→ 840 噸(2026/9 目標)— 三井新聞稿(MoneyDJ 2025-08-21);全轉 4 代剩 320 噸 — 工商時報 2025-08-22;研議 1,000 噸以上 — 工商時報 2025-11-05;2028 年 1,200 噸 — 上海證券研報 2026-01-21;廣發:全球 HVLP 產能約 1,300 噸、缺約 400、設備上限 1,500、三船表面處理設備市占八成、每代良率損失約 10% — 工商時報 2026-04-27。
  9. SemiAnalysis 2026 Q1~Q4 供需(592/1,266/1,446/1,441 噸 vs 600 → 950)— MoneyDJ 2025-09。
  10. 南亞:電子材料 8 月占比 59.8%、CCL 618 → 650 → 700 萬張、M9/M10 用 Low-Dk2+自有碳氫樹脂 — 工商時報 2026-09-17;銅箔占電子材料約一成、銷量以 HVLP1/2 為主、HVLP3 與類 HVLP4 少量 — 經濟日報 2026-09-05;高階 CCL 占比低於 5%、日東紡合作 — 優分析 2026-09-24。
  11. 德福科技:8 月 HVLP 500 噸、HVLP4 70 噸、良率逾六成、5 萬噸基地 — 優分析 2026-09-26;9 月 699.7 噸、HVLP4 187 噸、2027 Q2 分批投產 — 公司互動平台回覆 2026-10-08;銅冠 HVLP4 量產爬坡、RTF+HVLP 占比逾五成 — 優分析 2026-09-24。
  12. NVL576 選材:郭明錤調查 NVIDIA 改測 HC 無布 CCL、生益領先、台虹/亞電下跌 — 郭明錤 X 2026-09-30、abmedia 2026-10-01;廣發:PTFE 混壓最可能、HC 認證落後約三個月、台虹+台光電可望二供、2026 年底定案 — abmedia 2026-10-05、廣發海外電子 2026-10-07。
  13. 陸資專家訪談:HVLP3 加工費 15~18 萬、HVLP4 20~25 萬、Q4 調 10%、HVLP5 2027 投入 2028 主力、2027 需求 6,000 噸(口徑疑含全系列)— 新浪 2026-09-24(傳聞類)。
  14. 技術原理:趨膚深度 δ = √(ρ/πfμ),銅 δ ≈ 66/√f(MHz) μm(1 GHz 2.1、10 GHz 0.66、28 GHz 0.39、56 GHz 0.28);PAM4 Nyquist 頻率 = 鮑率÷2(224G PAM4 → 56 GHz、112G → 28 GHz);Rubin 用 NVLink 6;HVLP1~5 非 IPC 標準等級,Rz 數字依三井口徑與產業文獻,工程文獻對標準 ED 有 6~10 μm 的寫法。剝離強度、良率為典型值。

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